芯片洁净室如何进行清洁

半导体芯片在生产过程中对尘埃和污染物非常敏感，芯片洁净室任何微小的尘粒或者污染物都可能导致芯片的生产问题。因此，洁净室需要保持在一个高级别的清洁状态，而且必须使用专门的清洁方法和工具。该房间芯片洁净室的清洁方式和日常的清洁大不相同，今天来聊一聊。

一、芯片洁净室清洁的原理

了解颗粒与表面的结合（电、物理或化学）是实现最佳清洁效率的第一步。颗粒或脏污会通过三种方式沉积在洁净室内物体表面：静电吸引，重力沉降，气流引导。很多物质在摩擦后会带电，这就产生了静电力，会吸引空气中的尘埃颗粒。尘埃颗粒的质量导致它们受到重力的作用，使得它们沉降在表面上。洁净室气流也可能将尘埃颗粒引导至某些表面上。

1、湿式清洁：

使用清洁液去除污染物。在某些情况下，擦拭会移动颗粒，但无法去除它们。因此，当擦拭不足以克服颗粒粘附时，通常采用湿法清洁。清洁解决方案包括多种化学液选择；根据表面材料以及目标是消毒还是灭菌，将决定所需化学品的类型。

2、干式清洁：

使用多孔的或吸收材料对表面进行抛光或擦拭，减少再次污染的可能性至关重要。布和擦拭纸应由耐用材料制成，不会重新沉积颗粒、脱落纤维或容易破裂。根据洁净室的 ISO 等级来确定是否需要针织聚酯或吸水性更强的棉斜纹布擦拭巾。

二、芯片洁净室清洁方法

1、避免引入非洁净室指定的清洁剂

建议使用去离子水（去离子水）擦洗所有表面、地板、墙壁和长凳。

切勿在洁净室中使用磨砂膏、抹布或粉末。洁净室拖把是诸如编织聚酯之类的材料，可限制清洁过程中的脱落或撕裂。

使用可高压灭菌的多桶拖地系统，配有无损轮子、深拉无缝水桶、指定的清洁水和污水控制装置。

每天在正常工作班次之前，用DI水擦拭地板并用真空吸尘器吸干。

每周使用洁净室清洁剂、蒸馏水和 HEPA 真空过滤器对地板进行湿拖。

用湿的洁净室海绵和DI水擦拭墙壁，并每周真空干燥一次。

窗户和洁净室通道应每天清洗并用不起毛的 70% IPA 湿巾擦干。

2、每天吸尘天花板

每周用湿海绵和DI水擦拭天花板，然后真空干燥。

根据应用情况，必要时用清洁剂和DI水清洗天花板以去除沉积物。

除地板外，所有日常清洁均可在正常轮班期间进行。

每周用湿海绵和超纯水擦拭上方的灯罩和灯槽，并用真空吸尘器吸干。

根据需要及时地更换洁净室粘垫。

三、芯片洁净室清洁工具

1、洁净室吸尘器：

洁净室清洁的基础。他们使用 HEPA 或 ULPA 过滤器从受控环境中捕获和去除颗粒。可使人员能够清洁平面和难以触及的区域，例如角落和缝隙。许多产品设计用于清理危险的干或湿材料，配有接地线和无火花电机，以防止灰尘或易燃液体爆炸。

2、高精度干冰枪：

在芯片洁净室中，高精度干冰枪是一种非常有效的清洁工具。如果表面或设备对湿度敏感，可以在富氮的环境中进行非磨蚀性的干冰"喷射"以去除污染物。高精度干冰枪使用强压二氧化碳（CO2）流来剥离颗粒。固态CO2升华，因此不会留下任何化学残留物；污染物则被流动的气流带走1。

3、无尘拖把：

无尘拖把都是由不掉尘的材料制成，包括经过洗涤的聚酯纤维、微纤维和泡沫海绵。这些拖把既有干式的，也有湿式的。洁净室拖把的主要特点是在拖把时不会留下任何的绒毛或残留物。拖把头，水桶，和拧水器等都要符合无尘的要求。